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Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma

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https://hal.univ-grenoble-alpes.fr/hal-02917572
Contributeur : Marielle Clot <>
Soumis le : jeudi 7 janvier 2021 - 17:47:15
Dernière modification le : mardi 16 février 2021 - 03:33:49
Archivage à long terme le : : jeudi 8 avril 2021 - 19:49:03

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Viet Huong Nguyen, Abderrahime Sekkat, César Arturo Masse de la Huerta, Fadi Zoubian, Chiara Crivello, et al.. Atmospheric Plasma-Enhanced Spatial Chemical Vapor Deposition of SiO 2 Using Trivinylmethoxysilane and Oxygen Plasma. Chemistry of Materials, American Chemical Society, 2020, 32 (12), pp.5153-5161. ⟨10.1021/acs.chemmater.0c01148⟩. ⟨hal-02917572⟩

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